RTP ポッケルスセル – 電気光学製品 – カスタマイズ製品
RTP (RbTiOPO 4 ) ポッケルス セル。ルビジウム チタン リン酸酸化物ポッケルス セルとも呼ばれます。これらは包括的で優れたポッケルスセル装置です。
以下のようなレーザー技術分野で広く使用されています。
電気光学変調
パルス整形
レーザー内部空洞 Q
RTP ポッケルスセルは、より高い電気光学性能を持ち、大きな電気光学係数、高い耐光傷性閾値、優れた化学的安定性、高い抵抗率、他の電気光学材料と比較して、RTP (ルビジウム酸化リン酸チタン) ポッケルスセルには多くの利点があります。
吸湿性なし
低いスイッチング電圧
良好な消光比
圧電効果や熱電効果がない
RTP QスイッチまたはRTPパルスセレクターの分野で使用できます。
RTP ポッケルスセルの特徴:
高い抵抗率
高い消光比
低い半波電圧
光損傷閾値に対する高い耐性
高いスイッチング周波数
結晶損傷の閾値が高い
リンギング効果が非常に低い
潮解性がなく、誘電率が低い
注記：
10,000円は内金であり、商品の最終価格ではございません。 必要な場合は価格をお問い合わせください。
ポッケルスセルの仕様
| 動作範囲 | 500～3000nm |
| 透過率 | >98.5% |
| 消光比 | 30dB |
| 許容角度 | <4° |
| 標準ARコーティング | R<0.1% @1064nm |
| ダメージ閾値 | 600MW/cm 2 10ns 10Hz @1064nm |
ポッケルスセルのパラメータ
| 1064nmの透過率 | >98.5% | |
| クリアアパーチャ | 3、4、5、6、7、8、9、10、11、12mm | |
| 1064nmの半波電圧 | 1000V(3×3×10+10) | |
| 消光比 | >23dB | |
| 許容角度 | >1° | |
| ダメージ閾値 | >600MW/cm 2 10ns @1064nm | |
| 安定した性能の温度範囲 | -50℃～+70℃ | |
| 1064nmの静的半波電圧 | 4x4x20mm: 1600V | |
| 6x6x20mm: 2400V | ||
| 9x9x20mm: 3600V | ||
| 光学誘電率 | r 33 =38.5pm/V | Yカット |
| r 33 =35pm/V | Xカット | |
| r 23 =12.5pm/V | ||
| r 13 =10.6pm/V | ||
構造図
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